Требования к основанию

При подготовке основания при устройстве полов необходимо соблюдать требования СНиП 3.04.01-87 «Изоляционные и отделочные покрытия» и СНиП 2.03.13-88 «Полы».

Основание должно быть очищено от остатков старого клея или мастики, выровнено с помощью подходящих шпатлевок или выравнивающих смесей, просушено, на нем не должно быть пыли, остатков жиров, масел. Для выравнивания бетонных оснований внутри помещений можно использовать нивелирующие смеси, например homafloor 810. В случае очень рыхлых оснований допускается применять под клей специализированные глубоко проникающие грунтовки, не запирающие поры (например, homakoll 05C Prof).

ВАЖНО! Перед нанесением клея на основание и укладкой напольного покрытия убедитесь что основание сохранило свои впитывающие свойства.

Температура основания при укладке должна быть не ниже 15°С.

Применение

Перед приклеиванием линолеум должен быть раскроен в соответствии с местом приклеивания и выдержан на плоской поверхности лицевой стороной наружу для распрямления и акклиматизации не менее 24 часов. Для уменьшения усадки линолеума перед укладкой рекомендуется скатать его джутом вверх, а потом раскатать.

Клей перед применением тщательно перемешать. Если на поверхности клея образовалась полимерная пленка, ее необходимо предварительно удалить.

Зубчатым шпателем А2 или В1 нанести клей на подготовленное основание, уложить линолеум на сырой клеевой слой и прижать его к основанию путем прикатывания или приглаживания.

Учитывая способность натурального линолеума давать усадку в длину и расширяться в ширину под воздействием влаги из воздуха и клея, необходимо оставлять зазоры между полотнами линолеума не меньше 0,5мм.

Через 15 минут после укладки еще раз прикатать или пригладить покрытие.

Укладку напольных покрытий производить при температуре воздуха не ниже 18°С и влажности не выше 75 %.

Сварку стыков линолеума производить не ранее, чем через 48 часов.

В течение 72 часов после приклеивания не рекомендуется подвергать клеевое соединения нагрузкам на отрыв или на сдвиг.